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キヤノンのナノインプリント半導体製造装置が、主要半導体メーカーによる量産想定評価へ進みました。消費電力を従来方式の約10分の1へ削減し、将来は2nm世代への対応を目指します。ASMLのEUV露光装置に代わる存在となるのか、2027年の量産適用と業績への影響を検証します。